PVD-verguldende machine

Het magnetron-reactieve sputteren van isolatoren lijkt eenvoudig, maar de eigenlijke werking is moeilijk. Het grootste probleem is dat de reactie niet alleen plaatsvindt op het oppervlak van het onderdeel, maar ook op de anode, het oppervlak van de vacuümkamer en het oppervlak van de doelbron. Daardoor brandblussing, doelbron en werkstukoppervlak vonken enzovoort. De twin target source-technologie, uitgevonden door Leybold in Duitsland, lost dit probleem heel goed op. Het principe is dat een paar doelbronnen de kathode en anode van elkaar zijn, waardoor de oxidatie of nitridatie van het anode-oppervlak wordt geëlimineerd.

Voor alle bronnen (magnetron, multi-arc, ionen) is koeling nodig, omdat een groot deel van de energie wordt omgezet in warmte. Als er geen koeling of onvoldoende koeling is, zal deze warmte ervoor zorgen dat de doelbrontemperatuur meer dan 1,000 graden bereikt en de hele doelbron smelt. .

Een magnetronapparatuur is vaak erg duur, maar het is gemakkelijk om geld uit te geven aan andere apparatuur zoals vacuümpomp, MFC, filmdiktemeting en de doelbron te negeren. Hoe goed de magnetronsputterapparatuur ook is zonder een goede doelbron, het is als het tekenen van een draak zonder de finishing touch.

Het voordeel van het gebruik van sputteren met tussenliggende frequentie is dat het glad en dicht kan zijn. De hardheid van de filmlaag is hoog. De filmdikte kan lineair groeien. Geen vergiftiging. Het multi-arc sputteren van de vacuümoven past een kleine spanning en een grote stroom toe op het doelwit om het materiaal (positief geladen deeltjes) te ioniseren, waardoor het substraat (negatief geladen) met hoge snelheid wordt geraakt en neerslaat, waardoor een dichte film en een harde film wordt gevormd . Hoofdzakelijk gebruikt voor slijtvaste en corrosiebestendige films. Het nadeel is dat de positieve en negatieve elektrische schokken ongelijke film, gaten en ablatie veroorzaken.

Het principe van sputteren met middenfrequentie is hetzelfde als dat van algemeen DC-sputteren. Het verschil is dat DC-sputteren de cilinder als anode gebruikt, terwijl sputteren met tussenliggende frequentie gepaard gaat. Of de cilinder deelneemt, hangt af van het algehele ontwerp en het hele systeem. In het sputterproces is de opstelling van anode en kathode gerelateerd, en er zijn veel manieren om deel te nemen aan de verhoudingscyclus. Verschillende methoden kunnen verschillende sputteropbrengsten en verschillende ionendichtheden verkrijgen. De belangrijkste technologie van sputteren met middenfrequentie ligt in het ontwerp en de toepassing van de voeding. Op dit moment zijn de twee methoden voor het uitvoeren van sinusgolf en pulsblokgolf volwassener. Elk heeft zijn eigen voor- en nadelen. Ten eerste moeten we het type film overwegen en analyseren welke methode van het uitgangsvermogen geschikt is voor welke film. U kunt de kenmerken van de voeding gebruiken om de gewenste output te krijgen. filmeffect.

Sollicitatie

Parameter

Onze onderneming

Populaire tags: pvd gold plating machine, China, leveranciers, fabrikanten, fabriek, aangepast, kopen, prijs, offerte